論文など

＜2016年6月〜現在までの講演発表＞

  1. 石場 将希，喜納 淳，松田 良信，古里友宏，山下敬彦, マグネトロンスパッタリングにおける基板入射イオンエネルギー分布関数の測定, プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第22回支部大会，2018年12月15-16日，九州大学筑紫キャンパス（春日市），pp. , A-5 (2 pages) (2018.12)
  2. 石場 将希，喜納 淳，松田 良信，古里友宏，山下敬彦, 反射電界型エネルギー分析器によるイオンエネルギー分布測定, 2018 年（平成30 年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 2018 年12 月8 日(土) 〜 9 日(日), 福岡大学七隈キャンパス(福岡市), 8Ap-8 (1 page)(2018.12.8)
  3. Yoshinobu Mastuda, Naoki Matsuo, Masaki Ishiba, Tomohiro Furusato, and Takahiko Yamashita Uniform deposition of Ga-doped ZnO film by narrow gap RF magnetron discharge using buffer layer, 40th International Symposium on Dry Process (DPS2018), 2018.11.13-15, Nagoya, P-44, (2 pages) (2018.11)
  4. Masaki Ishiba, Yoshinobu Mastuda, Atsushi Kina, Tomohiro Furusato, and Takahiko Yamashita, Development of compact retarding field energy analyzer for measuring ion energy distribution in planar magnetron discharge, AAPPS-DPP2018, November 12-17, 2018, Kanazawa, Japan, A-O1 (1 page)(2018.11)
  5. 松田 良信，石場 将希，古里 友宏，山下 敬彦， 基板入射イオンのエネルギー分布測定用反射電界型エネルギー分析器の開発， 2018年　第79回応用物理学会秋季学術講演会，2018年9月20日，20p-PA5-5（2018.9.20)(1 page)
  6. 松田 良信, 松尾 直樹, 石場 将希, 古里 友宏, 山下 敬彦, バッファ層付ガラス基板へのGa添加ZnO膜の短ギャップRFマグネトロンスパッタリング成膜, 2018年　第79回応用物理学会秋季学術講演会，2018年9月21日，21p-PB1-1(1 page)（2018.9.21）
  7. 松尾 直樹, 古里 友宏，山下 敬彦, 松田 良信，RFマグネトロンスパッタGa添加ZnO膜に及ぼすバッファ層の効果，プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第21回支部大会，2017年12月16-17日，佐賀大学（佐賀市），pp.111-112, C-4 (2017.12.17)
  8. 松尾 直樹, 古里 友宏，山下 敬彦, 松田 良信，短ギャップRFマグネトロンスパッタ堆積Ga添加ZnOの膜特性，2017年（ 平成29年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 2017年12月1日（金）〜3日（日）, 宮崎観光ホテル（宮崎市）, 2Da-8　(2017.12.2)
  9. Yoshinobu Matsuda, Naoki Matsuo, Kohei Sakamoto, Masanori Shinohara, Tomohiro Furusato, and Takahiko Yamashita, Narrow gap RF magnetron sputtering deposition of gallium doped ZnO thin films, The 11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2017), 2017.9.11-15, Jeju (Korea), S1-PO14 (2017.9)
  10. 松田良信，坂本 康平，松尾 直樹，古里 友宏，山下 敬彦，短ギャップRFマグネトロンスパッタを用いたGa添加ZnOの成膜，2017年 第78回応用物理学会秋季学術講演会，2017年9月8月日，福岡国際会議場・国際センター・福岡サンパレス（福岡市），8a-PB4-19（2017.9）
  11. Yoshinobu Matsuda, Kohei Sakamoto, Takaki Sato, Naoki Matsuo, and Masanori Shinohara, Diagnostic Research on Magnetron Sputter-Deposition of Metal-Doped ZnO Films, IUMRS-ICAM 2017 (International Union of Materials Research Societies, International Conference on Advanced Materials)2017. 8.27-9.1, Kyoto University (Kyoto), C5-I30-006 (2017.8) Invited Talk
  12. Y. Matsuda, K. Sakamoto, T. Sato, S. Oyamada, N. Matsuo and M. Shinohara, Uniform deposition of Al-doped ZnO films by RF magnetron sputtering using off-axis inclined substrates, 4th Japan-Korea Joint Symposium on Advance Solar Cells 2017 / International Symposium on Energy Research and Application 2017, Kyushu univ. , fukuoka 2017 Feb. 10 (2017. 2. 10) (invited talk)
  13. 坂本康平，佐藤貴紀，松尾直樹，篠原正典，松田良信，RFマグネトロンスパッタにおけるGZO膜形成最適条件の探索，プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第20回支部大会，2016年12月17-18日，九州大学（福岡市），pp.61-62, P-21, (2016.12.17)
  14. 佐藤貴紀，坂本康平，松尾直樹，篠原正典，松田良信，イオンエネルギー分布測定用遅延電界型エネルギーアナライザーの製作，プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第20回支部大会，2016年12月17-18日，九州大学（福岡市），pp.67-68, P-24, (2016.12.17)
  15. 品川恭賢，有馬直人，篠原正典，松田良信，外部共振器型半導体レーザーを用いたRFマグネトロン放電中の吸収分光計測，プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第20回支部大会，2016年12月17-18日，九州大学（福岡市），pp.71-72, P-26, (2016.12.17)
  16. 小玉康太，日巻智裕，篠原正典，松田良信，Nd-Fe-B/Ta磁性薄膜のスパッタリング成膜と磁気特性の評価，プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第20回支部大会，2016年12月17-18日，九州大学（福岡市），p.179-180, D-4 (2016.12.17)
  17. 篠原 正典, 筑紫 康弘, 松田 良信，多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマ?表面相互作用の解析，2016年（ 平成28年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 平成28年12月3日（土）〜12月4日（日）, 対馬市交流センター, 3Ca-1　(2016.12.3)
  18. 佐藤 貴紀, 坂本 康平, 松尾 直樹, 篠原 正典, 松田 良信，マグネトロンプラズマ中のイオンエネルギー分布測定用RFEA の製作，2016年（ 平成28年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 平成28年12月3日（土）〜12月4日（日）, 対馬市交流センター, 3Ca-2　(2016.12.3)
  19. 品川 恭賢, 筑紫 康弘, 有馬 直人, 篠原 正典, 松田 良信，波長可変半導体レーザー吸収分光によるRF マグネトロン放電中の気体温度計測，2016年（ 平成28年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 平成28年12月3日（土）〜12月4日（日）, 対馬市交流センター, 3Ca-3　(2016.12.3)
  20. 小玉 康太, 日巻 智裕, 篠原 正典, 松田 良信，Nd-Fe-B/Ta スパッタ膜の作製と磁気特性の評価，2016年（ 平成28年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 平成28年12月3日（土）〜12月4日（日）, 対馬市交流センター, 3Ca-4　(2016.12.3)
  21. 坂本 康平, 佐藤 貴紀, 松尾 直樹, 篠原 正典, 松田 良信，RF マグネトロンスパッタにおけるGZO 膜形成条件の最適化，2016年（ 平成28年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 平成28年12月3日（土）〜12月4日（日）, 対馬市交流センター, 3Ca-5　(2016.12.3)
  22. 松尾 直樹, 坂本 康平, 佐藤 貴紀, 小山田 俊介, 篠原 正典, 松田 良信，RF マグネトロンスパッタGa 添加ZnO 膜の導電性に及ぼすバッファ層の効果，2016年（ 平成28年度）応用物理学会九州支部学術講演会, 平成28年12月3日（土）〜12月4日（日）, 対馬市交流センター, 3Ca-6　(2016.12.3)
  23. Yoshinobu Matsuda, Hironobu Yokoyama, Shunsuke Oyamada and Masanori Shinohara, Uniform deposition of Al-doped ZnO films on off-axis inclined substrates by using RF magnetron sputtering, 38th International Symposium on Dry Process (DPS2016), 2016.11.21-22, Sapporo, P-51, (2 pages) (2016.11)
  24. 坂本康平,佐藤貴紀,小山田俊介,松尾直樹,篠原正典,松田良信，軸外し傾斜基板を用いたAl添加ZnOのRFマグネトロンスパッタ成膜，電気学会プラズマ/パルスパワー/放電合同研究会，2016年10月20-22日，佐賀大学，研究会資料 pp.13-17，PST-16-078　(2016.10.20)
  25. 小玉康太,日巻智裕,篠原正典,松田良信，Nd-Fe-B/Taスパッタ膜の磁気特性評価，電気学会プラズマ/パルスパワー/放電合同研究会，2016年10月20-22日，佐賀大学，研究会資料 pp.19-24，PST-16-079　(2016.10.20)
  26. 松田良信，品川　恭賢，筑紫　康弘，篠原 正典，ICP支援DCマグネトロン放電中の気体温度と容器壁温度の経時変化，2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会，2016年9月13日，朱鷺メッセ（新潟市），13a-B7-4（2016.9）
  27. 小玉康太，日巻智裕，篠原 正典，松田 良信，NdFeB/Ta磁性薄膜のスパッタリング成膜，2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会，2016年9月15日，朱鷺メッセ（新潟市），15p-P6-1（2016.9）
  28. 小玉康太、日巻智裕、篠原正典、松田良信，RFマグネトロンスパッタリングによるNd-Fe-B/Ta磁性薄膜の作製，平成28年度九州表面・真空研究会2016（兼　第21回九州薄膜表面研究会），2016年6月11日（土），九州大学筑紫キャンパス，(2016.6.11)
  29. 伊東和樹，中野大和，篠原正典，松田良信，多重内部反射赤外吸収分光法を用いたプラズマププロセスのその場計測，平成28年度九州表面・真空研究会2016（兼　第21回九州薄膜表面研究会），2016年6月11日（土），九州大学筑紫キャンパス，(2016.6.11)
  30. 松尾直樹、坂本康平、佐藤貴紀、小山田俊介、篠原正典、松田良信，ZnO系透明導電膜のスパッタリング堆積における膜質の基板面内分布，平成28年度九州表面・真空研究会2016（兼　第21回九州薄膜表面研究会），2016年6月11日（土），九州大学筑紫キャンパス，(2016.6.11)

＜2015年4月〜現在までの論文>

  1. Uniform deposition of Ga-doped ZnO film by narrow gap RF magnetron discharge using buffer layer, 40th International Symposium on Dry Process (DPS2018), 2018.11.13-15, Nagoya, P-44, (2 pages) (2018.11)＊proceeding Yoshinobu Mastuda, Naoki Matsuo, Masaki Ishiba, Tomohiro Furusato, and Takahiko Yamashita
  2. Development of compact retarding field energy analyzer for measuring ion energy distribution in planar magnetron discharge, AAPPS-DPP2018, November 12-17, 2018, Kanazawa, Japan, A-O1 (1 page)(2018.11) ＊proceeding Masaki Ishiba, Yoshinobu Mastuda, Atsushi Kina, Tomohiro Furusato, and Takahiko Yamashita
  3. Anomalous Plasma Temperature at Supercritical Phase of Pressurized CO2 after Pulsed Breakdown Followed by Large Short-circuiting Current, IEEE Transactions on Dielectrics and Electrical Insulation 25(5) 1807-1813 (2018.10) Tomohiro Furusato, Naokazu Ashizuka, Takeshi Kamagahara, Yoshinobu Matsuda, Takahiko Yamashita, Mitsuru Sasaki, Tsuyoshi Kiyan, Yuki Inada
  4. Diagnostic Research on Magnetron Sputter-Deposition of Metal-Doped ZnO Films, IUMRS-ICAM 2017 (International Union of Materials Research Societies, International Conference on Advanced Materials)2017. 8.27-9.1, Kyoto University (Kyoto), C5-I30-006　＊proceeding Yoshinobu Matsuda, Kohei Sakamoto, Takaki Sato, Naoki Matsuo, and Masanori Shinohara,
  5. Streamer Branching and Spectroscopic Characteristics of Surface Discharge on Water under Different Pulsed Voltages, IEEE Transactions on Plasma Science, Vol.45, No.4, pp.711-717, (2017.4) Tomohiro Furusato, Takahiro Sadamatsu, Yoshinobu Matsuda, Takahiko Yamashita
  6. Uniform deposition of Al-doped ZnO films by RF magnetron sputtering using off-axis inclined substrates, 4th Japan-Korea Joint Symposium on Advance Solar Cells 2017 / International Symposium on Energy Research and Application 2017, Kyushu univ. , fukuoka 2017 Feb. 10 (2017. 2. 10) (invited talk)＊proceeding Y. Matsuda, K. Sakamoto, T. Sato, S. Oyamada, N. Matsuo and M. Shinohara
  7. Relation between Discharge Phase Transition and Complexity of Surface Discharge on Water, J. Inst. Electrostat. Jpn., 41, 1（2017）8-13 （2017.1） Tomohiro FURUSATO, Takahiro SADAMATSU, Yoshinobu MATSUDA and Takahiko YAMASHITA
  8. Infrared Spectroscopic Study of Hydrogenation Process of Si(100) Surfaces During Hydrogen Plasma Exposure, IEEE Transactions on Plasma Science, Vol.44, No.12, pp.3107-3111 (2016.12). M. Shinohara, N. Maruno, Y. Takami, S. Takabayashi, and Y. Matsuda
  9. Uniform deposition of Al-doped ZnO films on off-axis inclined substrates by using RF magnetron sputtering, 38th International Symposium on Dry Process (DPS2016), 2016.11.21-22, Sapporo, P-51, (2 pages) (2016.11)＊proceeding Yoshinobu Matsuda, Hironobu Yokoyama, Shunsuke Oyamada and Masanori Shinohara,
  10. Characteristics of Positive Pulse Arc Discharge in Supercritical Carbon Dioxide, Proceedings of IEEE International Pulsed Power Conference, pp. 1-4 (2015. 6) T. Furusato, H. Tanoue, M. Ota, T. Imamichi, H. Akiyama, Y. Matsuda, T. Fujishima, and T. Yamashita

総説・解説・著書など

  1. 松田良信, 金属添加酸化亜鉛透明導電膜スパッタ成膜過程におけるプラズマ支援効果, 「【最新】光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御」（金原　粲監修）の第４章第23節, pp.352-357 (技術情報協会,2013年6月28日)ISBN 978-4-86104-485-4 C3058
  2. Y. Matsuda, A. Hirashima, K. Mine, T. Hashimoto, D. Matsuoka, M. Shinohara, T. Okada, Deposition of Aluminum-Doped ZnO Films by ICP Assisted Sputtering, in "ZnO Nanocrystals and Allied Materials", Springer Series in Materials Science, Vol. 180, Rao, M S Ramachandra; Okada, Tatsuo (Eds.), 2013, 275 pages, ISBN 978-81-322-1159-4 (Springer India, 2013), pp.125-148（分担執筆　20pages） (2013.9)
  3. 松田良信、メタルスパッタプラズマの高度化調査専門委員会編，メタルスパッタリングプラズマの高度化とその最新動向，基礎・材料・共通部門技術報告，No. 1162　ページ数52ページ（2009/07/15, 電気学会電子図書館）（分担執筆　pp.39-42）